Panasonic poinformował o planowanym na koniec października rozpoczęciu masowej produkcji układów scalonych LSI z wykorzystaniem najnowszej technologii 65 nm. Komponenty wytwarzane będą w fabryce w Uozu, w prefekturze Toyama w środkowej Japonii. "W nowo budowanej fabryce półprzewodników zostanie zastosowana technologia produkcji układów scalonych z dużych, 300 mm płytek półprzewodnika. Wdrożenie technologii 65 nm przed pierwotnym terminem to następny krok w kierunku zwiększenia wydajności i upakowania elementów, co w wysokiej klasy sprzęcie elektronicznym powszechnego użytku jest wręcz konieczne. Komasując całą swoją wiedzę i doświadczenie techniczne spółka skupiła się na pięciu kluczowych grupach produktów: urządzeniach DVD, telewizorach cyfrowych, urządzeniach do telefonii komórkowej, kartach pamięci SD wraz ze sprzętem, który z nich korzysta, oraz matrycach CCD (charged coupled device)." - powiedział dr Susumu Koike, dyrektor zarządzający ds. technologicznych Matsushita.
Nowa fabryka półprzewodników rozpocznie produkcję z miesięczną wydajnością 6500 płytek. W procesie technologicznym 65 nm zastosowano krzemek niklu, technikę poprawy rozdzielczości (RET) oraz miedziane połączenia wewnętrzne. Technologia ta zapewnia niski pobór mocy i bardzo szybkie przetwarzanie, jednocześnie utrzymując wysoką gęstość upakowania tranzystorów. Pierwszy układ scalony LSI w technologii 65 nm przeznaczony jest do urządzeń DVD i pozwoli dalej zmniejszać ich rozmiary i udostępniać zaawansowane funkcje.
K O M E N T A R Z E
Jeszcze nikt nie napisał komentarza.
D O D A J K O M E N T A R Z
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
