Firma ASML zapowiedziała dostarczenie w 2019 roku na rynek ponad 30 skanerów do produkcji układów scalonych w litografii poniżej 10nm z wykorzystaniem techniki EUV. Tym samym ilość tego typu urządzeń dostępnych na rynku niemal się podwoi - do końca lipca ubiegłego roku na całym świecie było raptem 30 takich skanerów. Wśród odbiorów nowego sprzętu są tacy giganci jak TSMC, Intel oraz Samsung, którzy zdecydowali się na zakup urządzeń z rodziny Twinscan NXE. Według ASML obecnie jeden system skanujący jest w stanie w ciągu miesiąca wspomóc produkcję 45 000 wafli krzemowych.
Producent ma jednak w zanadrzu jeszcze wydajniejsze rozwiązanie. Planowany na ten rok Twinscan NXE: 3400C będzie mógł w ciągu godziny przetworzyć 170 wafli krzemowych zamiast 155, co jest limitem wersji NXE: 3400B.
K O M E N T A R Z E
Jeszcze nikt nie napisał komentarza.
D O D A J K O M E N T A R Z
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
