|
TwojePC.pl © 2001 - 2026
|
 |
Środa 8 kwietnia 2026 |
 |
| |
|
Intel ogłasza przełom w produkcji układów z GaN
Autor: Wedelek | źródło: WCCFTech/Intel | 05:54 |
|  Podczas konferencji IEEE International Electron Devices Meeting dział Intel Foundry pochwalił się osiągnięciem bardzo ważnego etapu w dziedzinie produkcji półprzewodników. Jest nim najcieńszy na świecie chip wykonany z azotku galu (GaN). Układ ma zaledwie 19 mikrometrów grubości (to mniej niż jedna piąta szerokości ludzkiego włosa) i został wytworzony na standardowych 300-milimetrowych waflach krzemowych. Równie ważny co sama grubość układu jest tranzystory jest fakt, że inżynierom Intela udało się zintegrować elementy GaN z cyfrowymi obwodami sterującymi w ramach jednego, monolitycznego rdzenia.
Eliminuje to potrzebę stosowania oddzielnych chipletów pomocniczych i ogranicza straty energii związane z przesyłaniem sygnałów między komponentami. Ponoć wewnętrzne testy niezawodnościowe potwierdziły, że technologia jest już gotowa do wdrożenia i spełnia wymagania stawiane produktom przeznaczonym do użytku komercyjnego.
Intel wierzy, że ich nowa technologia szybko znajdzie zastosowanie w centrach danych gdzie chiplety GaN mogą zastąpić tradycyjne rozwiązania oparte na krzemie, oferując mniejsze rozmiary, wyższą sprawność energetyczną. Właściwości tranzystorów GaN, w tym zdolność do pracy powyżej 200 GHz mają też czynić je naturalnym kandydatem do zastosowania w stacjach bazowych sieci 5G i 6G. Dodatkowym atutem jest szeroka przerwa energetyczna GaN, pozwalająca na stabilną pracę w wyższych temperaturach niż tradycyjny krzem, co upraszcza systemy chłodzenia.
 |
| |
|
|
|
|
|
 |
 |
|
|
|
D O D A J K O M E N T A R Z |
 |
| |
|
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
