|
TwojePC.pl © 2001 - 2026
|
 |
Poniedziałek 10 sierpnia 2026 |
 |
| |
|
Proces 1nm od Samsunga będzie wykorzystywać maszyny High-NA EUV
Autor: Wedelek | źródło: ZDNet | 06:01 |
|  Koreański ZD Net donosi, że proces 1nm od Samsung Foundry będzie pierwszą technologią tego producenta wykorzystującą najnowsze maszyny litograficzne High-NA EUV firmy ASML. Aktualnie jej wdrożenie zapowiedziano na 2030 rok, ale biorąc pod uwagę dotychczasową działalność Koreańczyków daty tej najprawdopodobniej nie uda się dotrzymać. W praktyce oznacza to, że Samsung będzie jednym z ostatnich dużych producentów, którzy wdrożą do powszechnego użytku najnowsze maszyny od ASML. Dla kontrastu Intel już teraz stopniowo zwiększa produkcję testową swojego procesu 14A z wykorzystaniem High-NA EUV, natomiast TSMC ma rozpocząć jej wdrażanie około 2029 roku.
I choć brzmi to alarmująco, to nie zmienia to faktu, że obecnie Low-NA EUV wciąż pozwala na skuteczne rozwijanie kolejnych generacji układów i wolniejsze wdrażanie nowych maszyn wcale nie musi być złym pomysłem.
Choćby dlatego, że tzw. early adopterzy płacą najwięcej, a same maszyny kosztują fortunę. Najbardziej zaawansowana maszyna High-NA EUV firmy ASML kosztuje około 400 mln dolarów, czyli mniej więcej dwukrotnie więcej niż systemy Low-NA.
Nie ma się więc co dziwić, że Samsungowi się nie spieszy. Tym bardziej, że dzięki technice multi-patterningu, polegającej na wielokrotnym naświetlaniu tej samej warstwy, można uzyskać efekty zbliżone do High-NA co przy obecnie rozwijanych technologiach jest w pełni wystarczające. Rozwiązanie to ma jednak swoje ograniczenia, które staną się coraz bardziej istotne przy procesach 1 nm i mniejszych i to właśnie dlatego Samsung chce zacząć używać nowych maszyn dopiero po zejściu do tego poziomu. |
| |
|
|
|
|
|
 |
 |
|
|
|
D O D A J K O M E N T A R Z |
 |
| |
|
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
