Twoje PC  
Zarejestruj się na Twoje PC
TwojePC.pl | PC | Komputery, nowe technologie, recenzje, testy
M E N U
  0
 » Nowości
0
 » Archiwum
0
 » Recenzje / Testy
0
 » Board
0
 » Rejestracja
0
0
 
Szukaj @ TwojePC
 

w Newsach i na Boardzie
 
TwojePC.pl © 2001 - 2019
Piątek 19 kwietnia 2019 
    

Samsung ogłosił opracowanie procesu litograficznego 5nm EUV


Autor: Zbyszek | źródło: Samsung | 12:47
(1)
Samsung poinformował o zakończeniu fazy prac badawczo-rozwojowych związanych z opracowaniem procesu litograficznego 5nm. Teraz przed producentem pozostaje jeszcze skompletowanie urządzeń i oprogramowania, aby móc rozpocząć testową produkcję próbek. Nowy proces korzysta z tranzystorów FinFET oraz fototechniki naświetlania masek EUV, i względem litografii 7nm ma zaoferować o 25 procent większą gęstość upakowania tranzystorów. Jednocześnie 5nm tranzystory maja pobierać albo o 20 procent mniej energii (przy zachowaniu tej samej wydajności pracy), albo oferować 10 procentowy wzrost wydajności pracy przy zachowaniu takiego samego zużycia energii.

Producent jest już w zaawansowanym etapie przygotowań, które pozwolą na uzyskanie próbek pierwszych 5nm układów. Aktualnie gotowe są jest już m.in metodologia projektowania, zestawy projektowania, i narzędzia do automatyzacji projektowania.

Firma spodziewa się, że próbki 5nm zostaną wyprodukowane w 2 połowie roku, a gotowość do masowej produkcji w litografii 5nm zamierza osiągnąć do końca przyszłego roku.

 

    
K O M E N T A R Z E
    

  1. Jak dobrze pójdzie to w 2020 roku ujrzymy trzy różne litografie (autor: Mario1978 | data: 19/04/19 | godz.: 15:30)
    oparte na używaniu maszyn EUV.To będzie 7nm EUV , 5nm LPE i właśnie to zapowiadane 5nm LPP.Teraz nie wiadomo czy nie dołączy do tego jeszcze 6nm LPP.
    Samsung będzie w tym przypadku miał gdzie wachlować tymi rewizjami litograficznymi bo one wzięły swój początek od 7nm EUV , którego jeszcze nie ma na rynku w postaci gotowych układów w smartfonach tej firmy.W drugiej połowie tego roku ma być gotowa ta największa ich fabryka a zarazem najnowocześniejsza , która powstaje głównie w celu poskromienia litografii 3nm GAAFET czyli pierwszą generacją procesu produkcji rozpoczynającą nowy bieg historii w technologii produkcji.


    
D O D A J   K O M E N T A R Z
    

Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.