TSMC uruchomiło masową produkcję w litografii 7nm EUV
Autor: Wedelek | źródło: Tech Power Up | 19:14
(6)
TSMC rozpoczął masową produkcję układów scalonych z wykorzystaniem promieniowania naświetlającego o długości fali poniżej 15nm, określanego mianem skrajnego ultrafioletu – w skrócie EUV. Dzięki tej technice produkowane układy scalone mogą być jeszcze mniejsze, a co za tym idzie na danej powierzchni można ich umieścić jeszcze więcej niż dotychczas. TSMC chwali się, że proces N7+ jest pod tym względem aż o 15-20% lepszy od standardowego 7nm. Co równie istotne producent już teraz może się pochwalić bardzo wysokim uzyskiem, który ma ponoć dorównywać obecnie stosowanej litografii 7nm. Innymi słowy w niedalekiej przyszłości możemy się spodziewać wysypu nowych procesorów produkowanych w technologii N7+.
Wdrożenie EUV na szeroką skalę to też dobry prognostyk na przyszłość w kwestii procesu 6nm, którego testy mają ruszyć już na początku przyszłego roku.
K O M E N T A R Z E
TSCM powiadasz..? (autor: Sony Vaio Zamiatajo | data: 8/10/19 | godz.: 22:20) nie słyszałem,może jakiś nowy alians ?
no to czekamy na te produkty (autor: Qjanusz | data: 9/10/19 | godz.: 09:58) to chyba pierwsze masowe zastosowanie UV
2== (autor: Mario1978 | data: 9/10/19 | godz.: 12:51) UV już dawno jest stosowane ale pierwsze E zmienia obraz naświetlania falą o długości jej połowy.Na chwilę obecną jest to najlepszy na świecie 'cienkopis'.
@temat. (autor: Mariosti | data: 9/10/19 | godz.: 14:01) Ciekawe czy wymaga tyle samo naświetleń co 7nm bez EUV, czy może wystarczy mu połowa naświetleń maski do podobnego uzysku. Bo to by znacząco obniżało koszt wafla i moce produkcyjne linii.
