|
TwojePC.pl © 2001 - 2024
|
 |
Poniedziałek 19 lutego 2024 |
 |
| |
|
ASML wyceniło maszyny EUV drugiej generacji, Intel już je zamówił
Autor: Zbyszek | źródło: TechPowerUp | 16:36 |
(2) |  Kilka lat temu nowością podczas wytrawiania układów scalonych było zastosowanie fototechniki naświetlania EUV z falami światła o długości 13,5 nm (ekstremalny ultrafiolet), zamiast wcześniej stosowanego głębokiego ultrafioletu (DUV) o długości fali 193 nm. To pozwoliło na znacznie dokładniejsze wytrawianie układów scalonych i umożliwiło produkcję chipów w litografiach 7nm, 5nm i 3nm. Technologia nie stoi jednak w miejscu, i firma ASML opracowała już maszyny EUV drugiej generacji, nazywane high-NA EUV, dysponujące optyką o zwiększonej rozdzielczości.
Urządzenia o nazwie TwinScan NXE:5000 zostały już zmontowane w wersji pilotażowej, i obecnie trwają ich testy. Koszt pojedynczego egzemplarza to 380 mln dolarów, a bieżące zamówienia mają opiewać na od 10 do 20 sztuk. Pierwsze maszyny TwinScan NXE:5000 otrzymać ma Intel (jeszcze w tym roku), który chce je użyć do wytrawiania najniższych warstw metalowych w swojej litografii 18A.
TwinScan NXE:5000 zawierają bardziej złożony układ optyczny zbudowany z prawie dwukrotnie większych zwierciadeł. Pozwoliło to na zwiększenie tzw. współczynnika NA (Numerical Aperture) z 0,33 do 0,55. Tym samym maszyny EUV drugiej generacji mogą tworzyć tranzystory o 70 procent mniejsze, przy zachowanej dokładności ich wytrawiania. Nowe urządzenia są też większe od dotychczasowych maszyn EUV - mają wielkość zbliżoną do autobusu i wagę około 150 ton. Montaż jednego urządzenia ma trwać około pół roku.
Szacuje się, że ostatnimi litografiami używającymi maszyn EUV pierwszej generacji będą litografie Intel 20A i Intel 18A (częściowo), oraz 2nm od TSMC i Samsunga. Kolejne procesy litograficzne (1,4nm i 1,0nm) mają wykorzystywać już wyłącznie maszyny high-NA EUV. ASML szacuje, że w 2026 roku wyprodukuje 10 takich maszyn, a w 2028 roku - 20 sztuk. |
| |
|
|
|
|
|
 |
 |
|
|
|
K O M E N T A R Z E |
 |
| |
|
- Nie popisaliście się treścią w artykule. (autor: Mario1978 | data: 21/02/24 | godz.: 19:02)
TwinScan NXE:5000 to pierwsze modele maszyn z wyższym współczynnikiem NA, który trafi tylko do Intela i są to tak na prawdę modele początkowe czy taka forma Beta. Nowe maszyny litograficzne, które będą wysyłane w drugiej połowie tego roku to modele jeszcze bardziej ulepszone przy czym Intel już zamówił 6 sztuk i mają mieć oznaczenie NXE-5300. Pozostałe 4 sztuki tych maszyn ma trafią do takich firm jak Samsung czy TSMC. Intel już przelał 2 mld dolarów by być pierwszym. ASML nie ma nic do powiedzenia w tym przypadku bo to co USA powie to oni muszą zrobić dlatego Intel jest pierwszy. Tylko co im to da jak nie mają już w swoich szeregach największych wizjonerów.
- "Tylko co im to da" (autor: Kosiarz | data: 24/02/24 | godz.: 22:20)
jakieś 20mld dolców...
|
|
|
|
|
|
|
|
|
D O D A J K O M E N T A R Z |
|
| |
|
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
