Intel wdrożył dwie pierwsze maszyny dla litografii 14A
Autor: Wedelek | 07:39
(1)
Intel pomyślnie wdrożył w swoim ośrodku rozwojowym D1 w pobliżu Hillsboro w stanie Oregon dwa zaawansowane moduły do litografii ASML High-NA Twinscan EXE:5000 EUV. Każdy z nich jest wyceniony na 380 milionów dolarów i pozwala na wytwarzanie do 30 000 wafli krzemowych kwartalnie. Systemy tego typu stanowią znaczną poprawę w stosunku do narzędzi litograficznych stosowanych do tej pory przez Intela. Nowe maszyny pozwalają przy pojedynczym naświetleniu maski osiągnąć rozdzielczość do 8 nm podczas gdy dotychczasowe narzędzia pozwalały osiągnąć do 13,5 nm.
Dzięki temu nowe maszyny pozwalają nie tylko na wydajniejszą produkcję układów scalonych, ale też zapewniają dwukrotnie większą niezawodność niż poprzednie generacje EUV. Intel twierdzi, że nowa litografia umożliwia osiągnięcie za pomocą jednej ekspozycji i kilku kroków produkcyjnych tego, co wcześniej wymagało trzech naświetlań i około 40 kroków.
Maszyny High-NA EUV mają być wykorzystywane w procesie 14A i niższym, podczas gdy technologia 18A ma nadal korzystać z maszyn Low-NA. Proces technologiczny 14A ma zapewnić ponad 15% wzrost wydajności na wat w porównaniu z 18A, a masowa produkcja z jego wykorzystaniem ma ruszyć w 2026 roku.
K O M E N T A R Z E
no i trzymamy kciuki za to, żeby to masowe rozpoczęcie produkcji (autor: Qjanusz | data: 26/02/25 | godz.: 12:06) było bardziej masowe niż masowa produkcja Samsunga
D O D A J K O M E N T A R Z
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
